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控制UV平行曝光的散乱，提高30μm以下精细图形的再现性。 以往，如果在底片上粘贴保护膜，难以形成50μm以下的窄幅图形。TACKWELL＃155FP通过UV区域的高透明化和大幅减少卷入气泡，可控制曝光光的散乱，易于形成精细图形。 不仅限于膜掩膜，还可用于玻璃掩膜。 与以前的液状和涂层型不同，仅通过层压便可粘合，便于操作。
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物理特性对比
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项目 |
单位 |
#155FP |
本公司现有产品 |
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总厚度 |
um |
20 |
10 |
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全光线透过率 |
% |
91.6 |
93.6 |
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400nm光线透过率 |
% |
85.1 |
81.8 |
|
HAZE(雾度) |
% |
1.2 |
7.3 |
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散乱率 |
% |
1.0 |
6.8 |
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用途 |
高密度封装基板 |
通用印刷电路板 |
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* 记载的数值为测量值，非保证值。
电话：0769-83606112 83607112 邮箱：3mzg@163.com 地 址：中国广东省东莞市黄江镇田美工业区盛业路37号
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